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DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置

本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制,由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成。適合大學(xué)近現(xiàn)代物理、材料、化學(xué)等領(lǐng)域進(jìn)行微波 CVD 原理與方法的教學(xué)、研究,金剛石與類金剛石薄膜制備實(shí)驗(yàn)及科學(xué)研究,以及用于生長碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜,具有生長速度快、操作簡便、性價(jià)比高等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)可完成等離子體刻蝕加工實(shí)驗(yàn)、微波等離子體表面改性等實(shí)驗(yàn)。

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技術(shù)參數(shù)

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